三星今天宣布,已开始量产第 9 代 QLC V-NAND 储存颗粒。

新一代采用专有的通道孔蚀刻技术打造,同时优化单元面积和外围电路,更均匀,密度更高,密度提高了约 86%;同时,性能也得到提升,依靠Predictive Program 技术,最大限度地减少不必要的流程,从而让写入性能提高了一倍。

此外,读写功耗分别降低了30%和50%。

总结下来就是,密度更高,性能更好,功耗更低。

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